Tsirkooniumi silikaathelmeste ZrO2 sisaldus on umbes 65%, mida tavaliselt nimetatakse "65 tsirkooniumhelmesteks". Täiustatud valtsimise ja kõrgel temperatuuril{4}}paagutamise protsesside kasutamisel ei teki helmeste sees poore ega tühimikke. Võrdse tiheduse ja kõvaduse tõttu sobib see madala kuni keskmise viskoossusega materjalide jahvatamiseks ning seda saab kasutada enamikes jahvatusseadmetes, eriti vertikaalsetes liivaveskites. Tavaliselt kasutatakse väikese -suurusega helmeid vahemikus 0,6–3,0 mm
Kasutatakse tintide, värvide, pinnakatete, maakide/mineraalide/metallide ja insektitsiidide lihvimiseks ja hajutamiseks
1 . Peamised tehnilised andmed
|
Koosseis |
ZrO265% SiO2 35% |
Suurus (mm) |
|
Eritihedus |
4,1 g/cm3 |
0.4-0.6 0.6-0.8 0.8-1.0 1.0-1.2 1.2-1.4 1.4-1.6 1.6-1.8 1.0-2.0 2.0-2.5 2.2-2.4 2.4-2.6 2.8-3 2.5-3.0, 3-3.2 3.2-3.4 4mm, 5 mm, 6 mm, 7 mm, 8mm, 9mm, 10mm Erimudeleid saab kohandada eraldi. |
|
Puistetihedus |
2,6 g/cm3 |
|
|
Vickersi kõvadus |
＞900 |
|
|
Kulumismäär tonni kohta |
0,03 kg/h |
|
|
Värv |
Valge |
|
|
pakett |
25kg/barrel |
2. Happe- ja leelisekindluse põhimehhanism ja keemilised omadused
Kristalli struktuuri stabiilsus
Tsirkooniumsilikaadil (ZrSiO ₄) on tetragonaalne kristallstruktuur, mille võreenergia on kuni 816 kJ/mol. pH-vahemikus 1-14 on raske läbida hüdrolüüsi või ioonivahetusreaktsioone. Selle happe-aluse resistentsuse mehhanismi saab jagada järgmisteks osadeks:
Happe korrosioonikindlus: Pärast 1000-tunnist leotamist 30% vesinikkloriidhappes (HCl) ja 98% väävelhappes (H ₂ SO ₄) on kaalulangus alla 0,05%, mis on palju madalam kui alumiiniumoksiidi helmeste puhul (kaalukaotuse kiirus 1,2-2,5%);
Leelise korrosioonikindlus: Pärast 50 töötlustsüklit 120 kraadi juures 40% naatriumhüdroksiidi (NaOH) lahuses muutub pinna karedus vähem kui 0,1 μm ja tsirkooniumoksiidi helmeste pinnale tekivad mikropraod (jälgitakse skaneeriva elektronmikroskoopia abil).
Ioonide leostumise kontroll XPS (röntgenikiirguse fotoelektronspektroskoopia) tuvastamise abil leiti, et lämmastikhappe lahuses pH 2 juures 65 tsirkooniumsilikaadi helmest lahustatud Zr⁴⁺ ja Si⁴⁺ ioonide kontsentratsioonid olid kõik.<0.1ppm, meeting the control requirements of electronic grade chemicals for metal ion pollution (such as the SEMI standard specifying impurity ions<1ppm).
3. Põhipunktid protsessi juhtimiseks happelises ja aluselises keskkonnas
Temperatuuri ja kontsentratsiooni lävi
Tugev happeline keskkond (pH<2): recommended temperature ≤ 120 ℃, sulfuric acid concentration ≤ 50%, hydrochloric acid concentration ≤ 30%;
Strong alkaline environment (pH>12): soovitatav temperatuur alla 150 kraadi või sellega võrdne, NaOH kontsentratsioon 40% või väiksem, KOH kontsentratsioon 30% või väiksem;
Ülikriitilised tingimused (näiteks tugevad happed üle 200 kraadi) nõuavad titaanisulamist seadmete kasutamist, et vältida lokaalset ülekuumenemist, mis viib helme kristallstruktuuri muutumiseni (ZrSiO ₄ → ZrO ₂+SiO ₂).
Kulumise ja saaste seire
Korrapäraselt (iga 500 tunni järel) viige helmeste pinnal läbi EDS (energia hajutav spektroskoopia) analüüs. Kui tuvastatakse, et võõrelementide, nagu Fe ja Na, sisaldus on suurem kui 0,5%, tuleks helmed õigeaegselt välja vahetada;
Pärast happe-aluse süsteemi jahvatamist tuleb suspensiooni testida läbi 0,22 μm filtrimembraani, et veenduda, et seal ei oleks helmeid kooruvaid osakesi (osakesed, mille läbimõõt on suurem kui 5 μm, 10 osakest/ml või vähem).
Kuum tags: happelise leelisega ühilduvate tsirkooniumi silikaathelmeste tootjad, tarnijad
